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»ï¼ºñì, 1900¾ï ±Ô¸ð »ï¼ºÀüÀÚ ¹ÝµµÃ¼ °øÀå °ø»ç °è¾à

»ï¼ºÁß°ø¾÷Àº »ï¼ºÀüÀÚ ÆòÅùݵµÃ¼ °Ç¼³ °ø»ç ÀϺÎ(P3L Ph2 FABµ¿ ¸¶°¨°ø»ç)¸¦ 1,901¾ï¿ø¿¡¼öÁÖÇß´Ù°í 19ÀÏ °ø½ÃÇß´Ù.

* À̹ø °è¾àÀº Áö³­ 1.14ÀÏ ÃÖÃʠü°áÇßÀ¸¸ç º¯°æ °è¾àÀ» ÅëÇØ °è¾à ±Ý¾×ÀÌ °ø½Ã ±âÁرݾ×À» ÃÊ°úÇÏ¿© °ø½ÃÇÔ.

ÆòÅà¹ÝµµÃ¼ °øÀåÀº »ï¼ºÀüÀÚ°¡ 393¸¸m2(¾à 120¸¸Æò) ºÎÁö¿¡ 2030³â±îÁö ´Ü°èº°·Î ¹ÝµµÃ¼ »ý»ê¶óÀΠ6°³µ¿(P1L~P6L)°ú ºÎ¼Óµ¿À» ±¸ÃàÇϴ ÃÊ´ëÇü ÇÁ·ÎÁ§Æ®´Ù.

»ï¼ºÁß°ø¾÷Àº ¼±¹Ú ¹× ÇؾçÇ÷£Æ® °ÇÁ¶·Î ÃàÀûµÈ ÀÚµ¿¿ëÁ¢, ¸ðµâ°ø¹ý(´ëÇüÈ­) ¿ª·®À» È°¿ëÇØ

2020³âºÎÅÍ EUV °øÀå ¹× P2L, P3LÀÇ ÆÄÀÏ·µ °ø»ç¿¡ Âü¿©ÇØ ¼º°øÀûÀ¸·Î ¼öÇàÇØ ¿Ô´Ù.

  * EUV(Extreme Ultraviolet) : ±ØÀڿܼ±À» ÀÌ¿ëÇØ ¹ÝµµÃ¼ È¸·Î ÆÐÅÏÀ» ±×¸®´Â °øÁ¤

       FAB(Fabrication) : ¿øÀÚÀçÀΠWafer °¡°øÀÌ ÁøÇàµÇ´Â ¶óÀÎ

»ï¼ºÁß°ø¾÷Àº Á¶¼±Çؾ砿ܠºÎ¹®À¸·ÎÀÇ »ç¾÷ ´Ù°¢È­ ±â¹ÝÀ» ±¸ÃàÇϱâ À§ÇØ ¹ÝµµÃ¼ °Ç¼³°ø»ç ¹°·®À» Áö¼Ó ¼öÁÖÇØ ³ª°¥ °èȹÀÌ´Ù.

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